Lista przedmiotów z materiałami udostępnionymi dla studentów

Dla_studentów
  • Increase font size
  • Default font size
  • Decrease font size

Marta Przespolewska

Opracowanie metody depozycji warstw metodą ALD o właściwościach zabezpieczających transmisyjne linie sygnałowe stosowane w tekstronice


Developing a method of ALD deposition of layers for protection signal transmission lines applied in textronics


Opiekun pracy dyplomowej: dr Michał Puchalski
Dodatkowy opiekun pracy dyplomowej: dr inż. Grzegorz Szparaga Dr.Eng.

Praca dyplomowa inżynierska obroniona 2020-02-27
Streszczenie pracy dyplomowej:
Celem pracy był dobór odpowiednich warunków depozycji cienkich powłok metodą osadzania warstw atomowych ALD na materiale tekstronicznym – z transmisyjnymi liniami sygnałowymi – w celu zabezpieczenia przed skutkami prania. Eksperyment został przeprowadzony dla tkaniny bawełnianej z nadrukowaną metodą druku filmowego linią transmisyjną zawierającą nanorurki węglowe. Proces depozycji przebiegał w warunkach niskotemperaturowych z zastosowaniem różnych wariantów ilości cykli depozycji tlenku glinu Al2O3, materiału stosowanego w technice ALD do wytwarzania warstw ochronnych. Jakość ochronną warstw oceniano po procesie znormalizowanego prania poprzez pomiar rezystancji powierzchniowej oraz rezystancji wytworzonej transmisyjnej linii sygnałowej, analizę budowy morfologicznej i elementarnego składu chemicznego skaningowym mikroskopem elektronowym SEM wspomaganym mikroanalizą rentgenowską EDS oraz spektrofotometrię UV-Vis jako metodę oceny zmiany barwy po praniu. Analiza uzyskanych wyników pozwoliła stwierdzić, że zastosowana w odpowiednio dobranych warunkach metoda osadzania cienkich warstw poprawia właściwości zabezpieczające i może być stosowana dla materiałów tekstronicznych, nie mniej istotnym parametrem jest ilość deponowanych warstw. Słowa kluczowe: tekstronika, cienkie warstwy, osadzanie warstw atomowych ALD, transmisyjne linie sygnałowe, konserwacja
Abstract:
The aim of bachelor thesis was to select the appropriate deposition conditions for thin solid films by the use atomic layers deposition technique (ALD) on textronic material – contain textile transmission lines - in order to achieve protective properties against washing activities. The experiment was conducted on cotton fabric with a screen printed transmission line contain carbon nanotubes. The deposition process was carried out at low-temperature regime using different variants of the number of Al2O3 deposition cycles, a material used in the ALD technique to produce protective layer. The protective quality of the layers was evaluated after the process of standardized washing by measuring the changes of electrical surface resistance and the resistance of the generated signal transmission line, the analysis of the morphological structure and elemental chemical composition with the scanning electron microscope SEM- supported by EDS X-ray microanalysis and UV-Vis spectrophotometry as a method of evaluating the colour change after washing . After the analysis of the obtained results it can be concluded that the method of thin layer deposition, applied under properly selected conditions, improves the protective properties and can be used for textile materials, no less important parameter is the number of deposited layers. Keywords: textronic, thin solid films, atomic layer deposition ALD, textile transmission lines, maintenance