Lista przedmiotów z materiałami udostępnionymi dla studentów

Dla_studentów
  • Increase font size
  • Default font size
  • Decrease font size

Wioleta Słaba

Ocena wpływu parametrów procesu osadzania powłok azotku krzemu metodą RF PACVD na podstawowe właściwości fizyczne i fizykochemiczne otrzymanych warstw


The influence of the process parameters of synthesis of silicon nitride coatings using RF PACVD method of the obtained physical and physicochemical properties of deposited layers


Opiekun pracy dyplomowej: dr hab. inż. Damian Batory
Praca dyplomowa inżynierska obroniona 2020-02-18
Streszczenie pracy dyplomowej:
Zasadniczym celem niniejszej pracy dyplomowej była analiza wpływu parametrów wytwarzania powłok azotku krzemu metodą RF PACVD, na ich podstawowe właściwości fizyczne i fizykochemiczne. Przeprowadzono szereg procesów, przy których zmianie ulegały parametry takie jak: potencjał autopolaryzacji (200, 400, 600 V) oraz prędkość przepływu azotu (16, 20, 24 sccm). Pierwszym etapem badań była analiza składu chemicznego wytworzonych próbek, za pomocą skaningowej mikroskopii elektronowej, z wykorzystaniem metody EDS. Następnie przeprowadzono obserwację powierzchni pod mikroskopem świetlnym. Kolejnymi etapami były pomiary kątów zwilżania, reflektometria (w celu określenia grubości powłok) oraz badanie chropowatości powierzchni, za pomocą profilometru. Na podstawie otrzymanych wyników określono optymalne parametry procesu, którymi okazały się być potencjał autopolaryzacji – 600 V oraz prędkość przepływu azotu – 24 sccm. Słowa kluczowe: azotek krzemu, powłoka, RF PACVD
Abstract:
The thesis investigated the effect of the process parameters of synthesis of silicon nitride coatings using RF PACVD method on the obtained physical and physicochemical properties of deposited layers. The several processes were carried out in a various deposition conditions – such as bias voltage (200, 400, 600V) and nitrogen flow rate (16, 20, 24 sccm). During the first stage of work the chemical compositions of samples were studied by EDS analysis with scanning electron microscopy. Thereafter the coatings were observed by light microscope and analysed by measurement of contact angles, X – ray reflectivity (to determine the thickness of the coatings) and roughness by profilometer. Based on the obtained results, it was concluded that the optimal process parameters were bias voltage – 600 V and nitrogen flow rate – 24 sccm. Keywords: silicon nitride, coating, RF PACVD