Lista przedmiotów z materiałami udostępnionymi dla studentów

Dla_studentów
  • Increase font size
  • Default font size
  • Decrease font size

Katarzyna Obolewska

Wpływ trawienia plazmowego na podstawowe właściwości powłoki DLC


Effect of plasma etching on the basic properties of DLC coatings


Opiekun pracy dyplomowej: dr hab. inż. Witold Kaczorowski prof. ucz.
Praca dyplomowa inżynierska obroniona 2021-02-17
Streszczenie pracy dyplomowej:
W pracy przeanalizowano wpływ trawienia plazmą wodorową i tlenową na zmiany właściwości powłok diamond-like carbon (DLC) wytworzonych techniką RF PACVD (ang. Radio Frequency Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition). W oparciu o literaturę ustalono, że trawienie powłok DLC plazmą tlenową i wodorową wpływa na ich zwilżalność. Zastosowanie tego procesu powoduje otrzymanie właściwości hydrofilowych dla powłok trawionych w plazmie O2 oraz utrzymanie właściwości hydrofobowych dla trawienia za pomocą plazmy H2. W ramach pracy zbadano grubości i przeanalizowano struktury chemiczne powłok przed i po procesach obróbki plazmowej. Zaobserwowano, że dla plazmy O2 szybkość trawienia jest wyższa niż dla plazmy H2. Po trawieniu plazmą tlenową zauważono zmiany w strukturze chemicznej powierzchni, czego nie odnotowano dla plazmy wodorowej. Słowa kluczowe: powłoki DLC, trawienie plazmowe, PA CVD, spektroskopia Ramana
Abstract:
In this thesis the impact of H2 and O2 plasma etching on the surface of diamond-like carbon films was analysed. The films were produced with the use of RF PACVD technique on silicon substrates. According to published sources, the plasma etching process affects the wettability of DLC coatings. It results in exhibition of hydrophilic properties for O2 treatment and maintaining of hydrophobic properties when hydrogen is used in place of oxygen. However, this effect is not stable and water contact angle increases with time. As a part of the study, research on thickness and analyses of chemical structure of DLC before and after plasma treatment have been conducted. Results have shown that plasma etching process has an impact on selected properties of used DLC films. It has been observed that the etching rate was higher for oxygen plasma in comparison with such rate for hydrogen plasma. Moreover, in contrast to H2, differences in chemical structures were spotted after O2 plasma treatment. Key words: diamond-like carbon coatings, plasma etching, PA CVD, Raman spectroscopy